[OPIE’16] LEDinside OPIE'16 展場直擊
發(fā)布時間：2016-05-23 點擊數(shù)：3798
OPIE’15 于2016年5月18日-20日日本橫濱展出，與會廠商多為業(yè)界先進技術(shù)專業(yè)廠商與尋找系統(tǒng)解決方案的廠商。此展會結(jié)合LASER EXPO、IR+UV EXPO、宇宙天文光學(xué)EXPO、LENS EXPO、光測量與定位EXPO 聯(lián)合展出，并新增Micro & Nano EXPO。根據(jù)OPIE’15年會展報告，展出廠商多為LASER、LENS、IR+UV廠商，前來的看展的廠商多為技術(shù)情報搜集與產(chǎn)品購入與導(dǎo)入為主，總計人數(shù)達15714人，可謂為技術(shù)發(fā)展的指標展會。
IR+UV EXPO 參展主要廠商包含研晶(HPLighting)，全球第二大UV-A 廠商Nitride Semiconductors、美國Phoseon、日本CCS、葳天、聯(lián)京等廠商。
|
UV LED應(yīng)用于曝光機一直有相當?shù)碾y度，主要因為 UV LED的光學(xué)設(shè)計不容易達到平行光。汞燈光線有辦法透過玻璃管繞行，轉(zhuǎn)為平行光，LED光線繞行就會持續(xù)減少亮度，造成不必要的損失。然而，研晶推出的 UV LED光學(xué)設(shè)計，利用特殊二次光學(xué)設(shè)計，目前也可達到小于2度的平行光，更具均勻性的光學(xué)設(shè)計，相當適合應(yīng)用于PCB / LCD / IC曝光機。此外，此產(chǎn)品設(shè)計強調(diào)的是導(dǎo)入新的設(shè)備機臺應(yīng)用之中，目前已成功導(dǎo)入臺灣設(shè)備廠商與并送樣予日本客戶。未來研晶將持續(xù)加強雜光的處理，使得光不僅達到均勻性，更能達到聚集性。
研晶結(jié)合多年經(jīng)驗在光學(xué)設(shè)計，并向終端客戶請教，同時開發(fā)水冷系統(tǒng)。與目前水冷系統(tǒng)上具有均溫與熱交換效率的問題，也導(dǎo)致整體冷卻系統(tǒng)的效能存在多年問題。研晶積極開發(fā)冷卻系統(tǒng)，采用噴射增壓方式，將冷水置于內(nèi)管，穩(wěn)定將冷水經(jīng)由孔洞透過水壓噴射至熱水區(qū)，達到均溫的效果，并能穩(wěn)定的帶走熱源，達
|
聯(lián)京積極朝向覆晶CSP LED產(chǎn)品，推出全波長產(chǎn)品，提供客制化服務(wù)。
|
CCS 是日本最大AOI 光學(xué)檢測光源制造商，也提供紫外線LED產(chǎn)品相關(guān)服務(wù)。
|
